集成电路用超纯水设备【武汉纯水设备】

在超大规模集成电路的超纯水系统中，水质的主要指标为：电阻率、微粒、TOC(总有机硅)、碱土金属、重金属、溶解氧等。在制造过程中，与硅片接触的水所含离子越多，对产品良品率影响就越大。

电阻率反映了超纯水中离子的含量，超纯水的电阻率越高，离子含量越低，其纯度也就越高。一般来讲，在25℃时，理论纯水的最高电阻率是18.25MΩ·cm。

集成电路的超纯水制备系统应根据原水水质及生产工艺所需水质来确定，一般采用预处理装置、反渗透装置、EDI模块、后处理系统。

预处理装置可有效去除水中所含的悬浮物、胶体、高分子有机物等杂质。活性炭对去除TOC有非常好的效果，为防止微生物滋生，应将活性炭的进水调成酸性。

反渗透装置对预处理的出水进一步进行处理，去除残留的TOC。

EDI模块可连续不间断产出纯水，进一步提高且稳定产水水质。

后处理系统装置主要有混合离子交换、UV(紫外线)、一级抛光等。混合离子交换可去除残留下来的TOC和SiO2；UV用来去除纯水中的细菌、微生物；一级抛光采用高纯树脂，用来处理金属离子。武汉反渗透纯水设备武汉EDI超纯水处理设备 武汉工业纯水设备 武汉实验室超纯水设备 武汉纯化水设备